© 2018 ООО «СИТЭК».

Произвдитель AFMHD

Установка глубокого реактивно ионного травления NeoGEN-MAXIS200 GIGALANE

Установка DRIE (глубокого реактивно ионного травления)  предназначена для выполнения циклических и нециклических процессов травления кремниевых подложек с использованием высокоплотной плазмы. Система подходит как для массового производства так и для R&D-центров, работающие с пластинами 4 ~ 8 дюймов.

Особенности:

• Широкие технологические возможности: циклическое и нециклическое травление, высокоскоростное травление, высокая однородность процесса и высокое соотношение сторон с контролем профиля, гладкая поверхность, контроль профиля краев
• Окно процесса: от Микро к Макро, от MEMS до полупроводников
• Предоставление настраиваемого DRIE-файла, оптимизированного для процессов клиента при помощи собственной демо-лаборатории производителя